Stiri

Intel folosește tehnologia High NA EUV a ASML pentru procesoarele Panther Lake 18A

Intel a anunțat că utilizează tehnologia High NA EUV de la ASML pentru producția sa de logică în procesul 18A, în special pentru familia Panther Lake. Aceasta marchează prima utilizare în producție la scară mare a echipamentelor High NA EUV în cadrul unui producător principal de procesoare.

Primul echipament High NA EUV EXE instalat a fost mutat în facilitățile Intel Foundry din Hillsboro, Oregon, pentru a valida primele produse Panther Lake 18A. Montarea la acea facilitate a avut loc anterior, în 2024, iar acum se spune că această tehnologie poate atinge randamente comparabile celor ale platformei NXE tradiționale, dar cu o capacitate mai mare de creare de lungimi de undă mai scurte și modele mai dense pentru circuitele complexe.

Technicians in a clean room work on an advanced ASML lithography machine with multiple screens and intricate machinery components.

Intel definește această etapă ca fiind „produs de logică la scară mare” pe High NA EUV, iar lansarea implică un subset de straturi din procesul Panther Lake 18A. Conform companiei ASML, utilizarea High NA EUV în producție marchează un pas important în maturitatea instrumentelor și deschiderea drumului pentru adoptarea pe scară largă în viitoarele noduri de fabricație.

Naga Chandrasekaran, vicepreședinte executiv la Intel Foundry, subliniază că parteneriatul tehnic cu ASML poate aduce beneficii în termeni de volum, flexibilitate de fabricație și performanță în noile noduri. Analizele din industrie sugerează că, în timp ce Intel este primul care aduce High NA EUV în producția în masă, alți producători mari privesc spre această tehnologie cu intenția de a o integra în etape viitoare ale planurilor lor. Tehnologia promite modele mai dense și potrivite pentru aplicații precum inteligența artificială și tehnologii emergente, pe măsură ce procesoarele devin mai complexe.

Articole similare

Back to top button